上海微电子推出新一代先进封装光刻机首台将在年内交付

时间: 2024-11-12 03:21:57 |   作者: 江南全站官网登录手机版

  9月19日，据上海微电子装备集团微信公众号显示，9月18日，上微举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。

  此次推出的新品光刻机主要使用在于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点，可帮助晶圆级先进封装公司实现多芯片高密度互连封装技术的应用，满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求。

  同时，将助力封装测试厂商提升工艺水平、开拓新的工艺，在封装测试领域共同为中国集成电路产业的发展做出更多的贡献。目前，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议，首台将于年内交付。

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  香港, May 6, 2016 - (ACN Newswire) - 中国光大控股有限公司 (「光大控股」，股份代号：旗下光大控股（青岛）投资有限公司（「光控青岛投资」）于2016年4月成功投资上海微电子装备有限公司（「SMEE」或「公司」），投资后光大控股占比11.98%。该项投资为光大控股投资布局智能装备领域的重要一步。 光刻机堪称集成电路与半导体产业价值链「皇冠上的明珠」，而SMEE是全球第四家也是中国唯一一家掌握高端光刻机系统模块设计与系统集成测试技术的公司，产品可大范围的应用于IC制造、先进封装、MEMS、LED、OLED-TFT等制造领域。公司研制的先进封装光刻机目前已占据国内85%的市场占有率，高亮度LED 光

  光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，其研发的技术门槛和资金门槛非常高，全球光刻机主要制造厂商最重要的包含荷兰的 ASML、日本的 Nikon、日本的 Cannon、美国的 Ultratech 以及中国的上海微电子。随着工艺制程的演进和分辨率的可靠性等要求慢慢的升高，光刻机制造难度也慢慢变得大，对配套的精密光学器件也提出了更高的要求。 近年来，受益于本土半导体产业爆发，不少光学领域公司已初具规模，其中就包括南京茂莱光学科技股份有限公司（简称“茂莱光学”）。笔者发现，近日，从股转系统摘牌3年的茂莱光学申请科创板IPO已获受理。凭借在精密光学器件方面的持续研发投入，茂莱光学已成功进入上海微电子的供应体系，实现了光刻机核心光学器件的部分国

  ，茂莱光学实现光刻机核心光学器件国产化 /

  2017年3月14日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）是一家专注于研发销售先进半导体制造设备的公司，今天SMEE与世界领先的芯片制造设备的领先厂商阿斯麦 (ASML) 签署战略合作备忘录（MoU），为双方进一步的潜在合作奠定了基础。 根据这项合作备忘录，ASML和SMEE将探索就ASML光刻系统的特定模块或半导体行业相关这类的产品进行采购的可能性。 “全球IC行业都在积极寻求技术蓝图进来一步缩小芯片尺寸，为商业和消费的人用户更好的提供更性能更强但节能的电子组件。这一技术蓝图的有效执行需要精密复杂的制造技术，这只能靠各领先公司、研究机构和院校汇集知识和经验形成有效的协作网络来共同达成，” ASML公司战略与市场高级副总

  装备（集团）与阿斯麦建立合作伙伴关系 /

  近日上海微电子举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。目前，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议，首台将于年内交付。 光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术，集成电路就是由投影曝光装置制成的，将具有不一样掩模图案的图形成像至基底上，制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水准不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，以及更低成本的需求。然而现有的光刻投影物镜依旧存在诸如数值孔径较小、分辨率低、适用波段窄、数值孔径不可变和非球面透镜加工制造成本高等问题。 为此，上海微电子于2018年12月30日申请了一项名为“一种光刻投影物镜及光刻机”的

  新型光刻机的黑科技 /

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