本年5nm2026年2nmEUV光刻机搅局者总算要量产了

时间: 2024-12-05 03:18:45 |   作者: leyucom乐鱼体育

  现在在芯片制作范畴，光刻工艺是简直一切晶圆厂，都选用的工艺，特别是在相对先进一点的制程中，全部是光刻工艺。

  而光刻工艺下，光刻机、刻蚀机等必不可少，其间光刻机更是重中之重，由于其门槛高，研制难度高，供应链杂乱，是一切芯片制作设备中，价格最高的设备。

  更重要的是，全球仅4家厂商，能出产光刻机，仅ASML这一家厂商，能够出产用于7nm及以下芯片的EUV光刻机。

  ASML绑缚了上下游，更是坐拥EUV光刻专利，能够说任何一家光刻机厂，想制作出EUV光刻机来，都非常困难，ASML现已将一切上下游绑到自己的战船上了。

  所以其它光刻机厂商，这几年，大多数都是绕开EUV技能，寻觅别的的技能来完成EUV光刻机相同的功用。

  其间有几种技能，咱们也很熟悉了，分别是NIL纳米压印，BLE电子束技能，X射线技能，以及DSA自成长技能。

  这4大技能，均被认为是最大有或许，绕开EUV封闭，完成7nm及以下技能的方向。

  其间又在NIL纳米压印技能，前进最为敏捷，日本光刻机厂商佳能，几年前就与SK海力士协作，推出了用于存储芯片的NIL纳米压印机，不过都是用于65nm这样的工艺中。

  而上一年，佳能发布了最新的纳米压印半导体设备FPA-1200NZ2C，称其能够适用于5nm芯片的制作，不用再运用EUV了。

  而近来，佳能再表态，这款纳米压印机FPA-1200NZ2C，在本年会量产，这种纳米压印机的本钱只要EUV的10%左右，耗电量也只要EUV 技能的10%。

  一起，选用纳米压印机后，其配套的设备，相比起EUV配套设备的本钱，要下降40%。

  佳能还表明称，这款设备后续会继续晋级，到2026年时，估量能够适用于2nm芯片的制作，完全绕开EUV光刻机计划。

  当然，由于这款纳米压印机FPA-1200NZ2C还没完全量产，所以不知道佳能是在吹嘘，仍是真的牛。

  一起也有业界的人表明，纳米压印技能，良率估量达不到EUV，且产能、功率会远低于EUV计划，所以实际上并不太适配大规模的芯片制作工业，更适用于小批量的芯片出产。

  但不可否认的是，假如佳能的这种技能全面量产，对EUV光刻机而言，将会是一个巨大的冲击，是真实的搅局者。

  由于禁令，咱们现在肯定是买不到它，但至少也让咱们有了新的方向能够学习，或许接下来，咱们也不一定要死磕EUV技能，你觉得呢？