中微公司官宣！刻蚀速度已能够精准到01到02纳米 刻蚀设备全球出货超5000台

时间: 2025-03-20 11:15:36 |   作者: leyucom乐鱼体育

  商场方面，中微公司表明，公司等离子体刻蚀设备反响总台数全球累计出货超越5000台。这包含CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反响台反响器和双反响台反响器共四种构型的设备。

  技能方面，中微公司着重，公司CCP和ICP的双台机，刻蚀速度已能够精准到0.1到0.2纳米水平，相当于头发丝直径约三十万分之一。要知道，一个硅原子的半径约为0.11纳米。

  据了解，刻蚀机主要有两种，分别是CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机。现在，无论是CCP设备仍是ICP设备，中微公司的商场占有率都在快速增加。

  中微公司表明，公司的CCP高能等离子刻蚀设备和ICP低能等离子体刻蚀设备的出货量近年来都坚持快速地增加。CCP设备在线累计装机量近四年年均增加大于37%，已打破4000个反响台；ICP设备在线累计装机量近四年年均增加大于100%，已打破1000个反响台。

  到2025年2月底，中微公司累计已有超越5400个反响台在国内外130多条出产线，全面完成了量产和大规模重复性出售，赢得了很多客户和供给厂商的信赖和支撑。

  中微公司表明，公司的刻蚀设备在曩昔的20年积累了很多的芯片出产线量产数据和客户验证数据，已能掩盖绝大多数的刻蚀运用，包含各种高端的运用。特别是CCP和ICP的双台机，重复证明了双反响台之间刻蚀的线纳米以下，刻蚀速度已能够精准到0.1到0.2纳米水平，相当于头发丝直径约三十万分之一。

  中微公司还着重，公司的刻蚀机已在5纳米及更先进的微观器材出产线上很多运用。

  材料显现，一个硅原子的半径约为110pm（pm，长度单位，1pm等于0.001纳米），即0.11纳米。以精准到0.1到0.2纳米水平，意味着中微公司的设备现已能完成原子级的操作。

  中微公司着重，公司研制新产品的速度明显加速，曩昔常常要三到五年开发一款新设备，现在只需两年或更短时刻就能开宣布存在竞争力的新设备，并顺畅进入商场。

  详细来看，近年来中微公司为先进存储器材和逻辑器材开发的六种LPCVD薄膜设备现已顺畅进入商场。其间，在进入商场后只一年，存储器出产线所用的LPCVD设备出货量已打破100多个反响台，2024年得到约4.76亿元批量订单。

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