打破欧美围堵！国内公司获得7nm或以下芯片要害技能

时间: 2024-11-14 07:57:12 |   作者: 新闻中心

  近年美国制止我国输入要害芯片及先进的芯片制作东西，被我国视为是欧美在科技上的围堵。最近我国上海微电子设备（集团）股份有限公司 (SMEE)，发布了一系列制作7nm及以下芯片要害才能的专利，或许能够打破欧美的科技围堵。

  我国国家智慧财产局于9月10日披露了一项名为“极紫外线辐射产生设备及光刻设备”的发明专利，内容触及极紫外线辐射（EUV）产生设备及光刻设备，申请者为上海微电子配备（集团）股份有限公司。

  上海微电子此次冰脸的专利首要触及EUV光源及光刻设备，其间要点的极紫外线辐射产生器（光源）最重要的包括腔体、靶材产生器、雷射产生器、搜集镜、电极板、气控部件等要害部件。

  据材料来历指，极紫外线辐射EUV微影技能，是一种先进的芯片制作技能，可在半导体晶圆上制作极端精密的电路，然后生产出更小、更强壮的芯片。这项技能运用极紫外光（EUV）作为光源，比传统微影技能能到达更高的精准度。具有 EUV 光刻技能专利意味著把握了制作7nm及以下芯片的要害才能。