国产5nm刻蚀机成功落地遥遥领先全球！华为等巨头也传来好消息

时间: 2024-10-22 06:47:39 |   作者: 新闻中心

  长期以来，我们的很多行业都深受芯片和光刻机的限制，虽然我们已有了足够强大的芯片设计能力，但芯片的量产一直是个问题，华为芯片就是活生生的例子，麒麟9000芯片已经设计的很出色了，但限制了华为芯片的代工，导致华为线片严重短缺，说到芯片的量产，就必须提一下光刻机这款设备。

  目前顶级的光刻机基本被阿斯麦尔所垄断，阿斯麦尔的光刻机也是集结十几个国家的芯片人才和技术历经十几年才研发出来的，我们想要一两年研发出光刻机，难度可想而知，经过我们的不懈努力下，我们已成功突破了28nm芯片的量产，但距离先进的5nm、4nm芯片还有非常大的差距。

  期盼已久的消息终于来了，中微半导体突然宣布，其研发的5nm刻蚀机已经通过了台积电的认证，并成功获得了台积电、三星的大量订单，光刻机固然重要，但芯片制作的完整过程中的刻蚀同样重要，光刻机、刻蚀机在芯片生产的全部过程中的投资比为25%和15%，而且中微半导体研发的刻蚀技术全球领先。

  同时华为等国产科技巨头也传来好消息，余承东称华为已经解决了供应链问题，也造出了5G手机壳解决手机缺少5G的问题，还有小米也在芯片领域做出了突破，澎湃P1、澎湃C1纷纷量产落地，值得一提的是小米将澎湃P1下放到了千元机Redmi Note11T系列，支持单电芯120w快充，国产企业也纷纷进军芯片领域。

  为何国产芯片和光刻机能在这么短的时间内获得这么大的发展？一种原因是高通和苹果“挤牙膏”式的创新，骁龙888、8Gen1功耗太大，但又不得不用，让国产企业和国人认识到了自主研发的重要性，另一方面是华为的前车之鉴，谁也不想成为下一个华为，只可以通过自主研发。

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