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国产半导体设备逆袭崛起!全球首发3nm技术:国产刻蚀机又领先世界

时间: 2024-10-23 09:45:11 |   作者: 新闻中心

  【5月8日讯】相信我们大家都知道,国产芯片、国产操作系统的发展一直都遭受到了众多“遏制”,尤其是在芯片制造领域,一直都是最为复杂的过程,从最开始的半导体材料、设备、技术和人才储备等等,就连台积电、三星这样的芯片制造巨头,不能离开全球半导体产业链的支持,例如美国的EDA软件、荷兰ASML光刻机、日本半导体材料等等,在整个芯片制造环节中,涉及到了光刻机、蚀刻机、离子注入机、清洗剂、薄膜设备等,其中我国芯片蚀刻机也是达到了世界领先水准,目前所推出的5nm工艺蚀刻机,更是受到了台积电的高度关注,国产高端5nm工艺芯片蚀刻机也直接决定了集成电路上雕刻的品质。

  而就在近日,国产芯片蚀刻机巨头中微半导体,在国产3nm芯片蚀刻机上取得重大技术突破,目前中微半导体已完成了Alpha 原型机设计和制造,测试等开发评估工作,这也代表着我国的芯片蚀刻机将会再次领先于全世界,或许也是因为中微半导体的芯片蚀刻机技术太过于领先,导致美国方面的企业都开始来剽窃中微半导体的芯片蚀刻机技术。

  芯片蚀刻机的最大的作用就是将光刻机光刻好的芯片电路图进行逐一雕刻,并且每一步微观细节都不能够出错,尤其是要在指甲盖大小的芯片能上,集成上百个晶体管,可见其芯片蚀刻机的雕刻技术难度之高,或许也是因为中微半导体的创始人尹志尧曾在美国半导体公司任职,所以在回国创立了中微半导体以后,更是遭到了美国公司的起诉,认为尹志尧存在窃取商业机密的行为,但最终的结果为,在调查数百万份文件之后,并未发现有侵权的地方。所这家美国公司也是彻底的败诉,这也是得益于尹志尧从始至终坚持自主研发,不断地申请技术专利,反倒后续这家美国公司直接在生产相关的设备时,侵犯了中微半导体的专利技术,到底是是在窃取谁的技术,相信很多网友们也是一目了然。

  随着中微半导体的不断逆袭崛起,导致很多美国科技巨头都无法离开中微半导体的设备,所以美国公司最终也只能够和中微半导体达成和解协议,并且美国也向中微半导体开放了实仓,继续允许在美国市场交易,就在中兴、华为等国内三百多家科技巨头被列入到实体清单以后,中微半导体创始人尹志尧更是直言:“国产芯片想要取得技术突破,就必须要重视人才培养的问题。这也是最为要紧的事情;”

  最后:中微半导体作为国内实力最顶尖的芯片蚀刻机巨头,如今再次在3nm工艺芯片蚀刻机技术上取得技术突破,实现了全球技术领先,这对我们国产芯片产业链的崛起,无疑也将会起到极大的推动作用,各位小伙伴们,你们对此都有咋样的看法和意见呢?欢迎在评论区中留言讨论,期待你们的精彩评论!

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