美国对华为技术限制华为真的能避开美国的限制吗
时间: 2024-10-17 12:39:28 | 作者: 产品中心
各位网友及粉丝们大家好,针对以上这一个话题,我和大家一起来探讨下,看看华为能否避开美国技术的限制。
美国商务部产业安全局在北京时间2020年5月15日晚发布了重要的公告,要求采用美国技术和设备生产出的芯片,必须先经过美国批准才能出售给华为,这就从另一方面代表着华为在使用美国技术和美国设备产出的产品,都需要向美国商务部报备,否则会受到相应的制裁。
首先,制造芯片离不开精度较高的光刻机及蚀刻机等先进设备,以及先进的制造工艺。ASML(阿斯麦尔)是全球先进平板印刷市场之上的巨头。此前,中芯国际在荷兰的ASML公司订购了一台极紫外(EUV)光源的新型光刻机,但由于美国的原因,ASML光刻机无法顺利进入中国,这也给我国芯片制造业的发展带来了更严峻的挑战。国内目前上海有一家能生产芯片的厂家,就是上海微电子设备有限公司。从有关联的资料显示,目前上海微电子公司只有SSB600/10(280nm光刻机)、SSC600/10(110nm光刻机)、SSA600/20(90m光刻机)三种光刻机,还有一种22nm利用紫外光源的光刻机还在正在突破中,如果能正常使用,那我国最小精度光刻机为22nm。也算是不小的进步了。
我国中微半导体公司研发有7nm和5nm的蚀刻机,技术属于世界领先水平,但还是代替不了光刻机。只能配合光刻机使用。不过通过努力,中微半导体的5nm蚀刻机已经打入台积电的供应链,这里的蚀刻机指的是5nm工艺的等离子蚀刻机。等离子体蚀刻机是芯片制造中的一种关键设备,用来在芯片上进行微观雕刻,每个线条和深孔的加工精度都是头发丝直径的几千分之一到万分之一,精度控制要求非常高。半导体工艺的技术水平是由光刻机决定的,所以中微半导体做5nm蚀刻机并不等于能做5nm光刻机,但是这样的领域的进展依然意义重大,先进的蚀刻机售价也要数百万美元。
备注:光刻机和蚀刻机区别:光刻机就是曝光产生图案,蚀刻机就是雕刻这些图案的设备。
目前只有台积电有7nm、5nm的光刻机。在2020年秋季用5nm光刻机可以投产,先进的制造工艺,减少芯片的面积,同时还能降低芯片的功耗。5nm的芯片应该是抢手货。华为海思设计的麒麟1020,就是5nm的芯片,面积更小,功耗减低40%。如果华为需要从台积电获取5nm、7m芯片制造,均需要提前向美国方面报备后才能够正常的使用。不过华为在前期已经下了订单。麒麟1020已经量产,加上华为应该有库存积压,去年在美国采购了187亿美元的芯片、占比超过45%,而苹果和三星也只有7%左右的占比。可能在短期内,还是能满足5G手机的生产,特别是P40系列。
2019年华为和欧洲的意法半导体公司有合作,可以借用意法半导体,得到软件方面的使用应该是没问题的。目前,我国的芯片进口在3000亿美元,但是国内生产的芯片只占有5%,其他芯片几乎都需要进口。
通过上面的分析,华为目前的确处境很不乐观,中低端芯片的设计与生产没什么太大的问题,高端芯片5nm、7nm工艺的芯片生产可能存在着变量,通过欧洲意法半导体获取研发软件的应用。但是5nm、7nm芯片的生产制造挺麻烦,我自己觉得很难,暂时是绕不开美国的限制。因为大家都知道,全世界生产芯片用的最好的光刻机都是荷兰ASML公司生产的,包括台积电、中芯国际、乃至韩国三星等,而ASML公司的光刻机里面有美国的技术和零部件。
据相关新闻报道,美国将对华为的芯片供应商来控制,只要这些供应商的直接产品用到美国某些软件或技术。根据规则变更,即使芯片不是美国开发设计,但只要外国公司使用了美国芯片制造设备,其须获得美国政府的许可证,才能向华为或其附属公司海思半导体等提供芯片。华为继续获取某些芯片或使用某些美国软件或技术相关的半导体设计,也需从美国商务部获得许可证。
总之,美国对华为技术的封锁是肯定的,不管是国内台积电、中芯国际以及国外的芯片企业比如:英特尔(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)等,只要使用到美国的技术,都要受到管控,但是如果此禁令一直存在下去,那么华为未来的路会很难,至少在国产的光刻机这些没有起来之前,海思的芯片或者说手机芯片会落后高通骁龙系列和苹果A系列处理器。
据相关报道,中芯国际已经获得160亿的资产金额的投入,为后续的发展奠定了基础。在光刻机研发方面,可以投入更多的研发费用,在整个世界招募制造光刻机的尖端技术人才,研发出自己的高精度光刻机,可以在一定程度上完成自给自足,这样中国芯片研发及制造技术才会立足于世界之巅。
我们应该对高通、苹果这样的美国企业同样给予关注,采取对等原则。因为像小米、中兴等还在使用高通的芯片,如果再次对这些手机企业芯片进行封锁,对于国内手机行业、乃至整个通信行业都会受到严重的影响。只有这样,华为胜算的机会就非常之大。
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