惊爆！我国光刻机兴起90%自主可控震慑全球！老美芯片封闭战化为乌有！

时间: 2025-01-30 14:04:28 |   作者: 产品中心

  曾几何时，全球“芯荒”如风暴般席卷，让很多巨子企业愁眉苦脸，丰田等巨子也因芯片缺少而生产线阻滞，商场占有率一泻千里。这背面，凸显的正是芯片这一现代工业“魂灵”的不可或缺性。但是，在这关键时刻，国产芯片却遭受了光刻机的“卡脖子”难题，让人扼腕叹息。

  面临光刻机这一芯片制作的“珠穆朗玛峰”，咱们从未有过一点点害怕！经过很多次锲而不舍的探究与百折不挠的尽力，国产28nm浸没式光刻机总算好像灿烂星斗般横空出世，犹如震慑国际的惊雷，宣告着我国半导体工业的兴起与光辉！

  老美做梦也没想到，我国不只成功研制出了28nm浸没式光刻机，还完成了90%以上的中心零部件自主可控。要知道，在高端光刻机范畴，主要由荷兰ASML、日本尼康和佳能等企业主导，尤其是ASML在高端EUV光刻机商场占有非常大的优势，曾一度独揽全国，让其他厂商望尘莫及。但现在，国产光刻机却以自主研制的实力，向国际宣告：咱们也能行！不只如此，经过多重的曝光工艺，还能制作出14nm甚至7nm的芯片。

  老美从前认为的芯片之战，现在却变成了我国半导体工业兴起的见证。美方试图经过封闭光刻机来遏止我国芯片工业的开展，但现在却搬起石头砸了自己的脚。国产光刻机的兴起，不只打破了西方的技能独占，更是为我国半导体工业的开展注入了强壮的动力。老美的芯片封闭战现已变得毫无意义。