北方华创“一种刻蚀办法、半导体工艺设备及核算设备”专利发布
时间: 2024-10-24 11:15:15 | 作者: 产品中心
天眼查显现，北京北方华创微电子配备有限公司“一种刻蚀办法、半导体工艺设备及核算设备”专利发布，请求发布日为2024年9月6日，请求发布号为CN118610121A。
本说明书施行例供给了一种刻蚀办法，该办法经过堆积步在待刻蚀膜层结构标明发生保护膜，该保护膜可填充开口侧壁的损害部分，以进步开口侧壁的平整度；此外，跟着开口刻蚀深度的添加，经过替换进行刻蚀步和堆积步进行开口的刻蚀会呈现开口陡直度下降的问题；因而，在替换进行屡次刻蚀步和堆积步后，运用运用更高刻蚀速率的工艺气体的润饰步对开口的侧壁进行润饰，去除侧壁中杰出部分，并扩宽开口底部宽度，以完成进步开口侧壁的陡直度的意图，从而在完成深邃宽比的开口侧壁的刻蚀的基础上，完成了进步开口侧壁的外表平整度和开口全体的陡直度的意图。
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