微波等离子去胶机
时间: 2024-11-14 07:51:26 | 作者: 移动式蒸汽清洗机
去胶工艺是微加工试验中一个很重要的进程。在电子束曝光、紫外曝光等微纳米加工工艺之后，都需求对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶去除的是否洁净完全、对样片是否有损害等问题将直接影响到后续工艺的顺利完成。德国ALPHA PLAMSA具有多年的去胶经历，致力于给您供给的微波等离子体去胶机必恭必敬，并供给的技术上的支撑服务。
MEMS工艺中经常用到SU8光刻胶，但是SU8很安稳，其丧命的缺陷在于去胶困难。未处理SU-8光刻胶的去胶问题，咱们向您引荐德国Alpha Plasma的SU-8微波等离子体去胶机，该设备是选用氟基气体的去胶工艺，使用氟基气体与SU-8胶的化学反应，完成快速去除SU-8功用。一起设备中还集成了温控必恭必敬，去胶进程中对衬底温度的操控确保了深邃宽比金属结构的完整性，终完成高质量MEMS器材的制备。SU-8去胶速率检验目标为1μm/min，试验中可到达几个微米。因而这款的SU8去胶机是MEMS去胶工艺的抱负挑选。
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