等离子除胶渣工艺

时间: 2024-11-26 17:38:56 |   作者: leyucom乐鱼体育

  等离子除胶渣工艺 一． 等离子简介： PLASMA 等离子清洗（又称电浆）， 起源于20世纪初期， 跟着高科技的开展， 现许多应用在电路板钻孔后孔内清洁工序， 传统的湿法高锰酸钾除胶渣工艺因有液体张力等原因， 在现有电路板小孔， 密孔， 肓孔（Blind Via） 等产品加工后常有残留胶渣（smear）。 所以以等离子清洁的干式制程遭到注目。 二． 电浆（以下总称电浆） 发生方法： 能发生电浆的方法许多， 以下是几种高密度电浆的发生方法： １ ． 感应耦合式电浆发生法（I CP） 感应耦合式电浆作业原理， 如下图， 线圈上加一高频电源， 当线圈电流发生显着的变化时， 由安培规律H = J + 0(E/t)知， 可产...

  等离子除胶渣工艺 一． 等离子简介： PLASMA 等离子清洗（又称电浆）， 起源于20世纪初期， 跟着高科技的开展， 现许多应用在电路板钻孔后孔内清洁工序， 传统的湿法高锰酸钾除胶渣工艺因有液体张力等原因， 在现有电路板小孔， 密孔， 肓孔（Blind Via） 等产品加工后常有残留胶渣（smear）。 所以以等离子清洁的干式制程遭到注目。 二． 电浆（以下总称电浆） 发生方法： 能发生电浆的方法许多， 以下是几种高密度电浆的发生方法： １ ． 感应耦合式电浆发生法（I CP） 感应耦合式电浆作业原理， 如下图， 线圈上加一高频电源， 当线圈电流发生显着的变化时， 由安培规律H = J + 0(E/t)知， 可发生变化磁场， 一起由法拉第规律E = - 0(H/t)知此变化之磁场会感应一反方向电场， 并加快电子与线圈电流相反的二次电流。 下图为电浆实践在做的作业中的相片。