北方华创前三季大赚45亿创新高 联合重组9年股价大涨逾20倍
时间: 2025-01-08 21:00:36 | 作者: 产品中心
12月4日早盘,北方华创股价冲高回落,收报406.25元/股,微涨0.21%。其市值为2164亿元。
12月3日晚,北方华创公告,北方华创及所属十家子公司被美国商务部列入实体清单。公司目前生产经营正常,本次被列入“实体清单”不会对公司业务产生实质性影响。公司积极与各相关方做沟通,做好应对工作。
北方华创主要是做半导体设备的研发、生产和销售,具有较高的市场地位,公司营业收入大多数来源于国内市场。
2016年,北方华创完成联合重组,此后,公司经营业绩持续增长。今年前三季度,公司营业收入超过200亿元,创了历史同期新高。归属于母公司股东的净利润(以下简称“净利润”)超过44亿元,不仅创了历史同期新高,也超过历史水平。
北方华创财务情况较好,抵御市场风险能力较强。截至今年9月底,公司货币资金约120亿元,对应的债务不到60亿元。
12月3日晚间,北方华创发布了重要的公告,公司关注到美国商务部网站于当地时间2024年12月2日发布了最新的“实体清单”,这中间还包括北方华创及所属十家子公司。
北方华创在公告中称,公司一贯严格遵守国内外法律和法规及商业惯例,依法合规开展各项业务,并于2023年11月通过了国际权威机构ISO37301合规管理体系认证。
根据美国《出口管理条例》(ExportAdministrationRegulations,英文简称“EAR”)的规定,供应商向“实体清单”企业销售EAR管制物项,需要事先向美国商务部申请出口许可证。北方华创表示,公司目前生产经营正常,本次被列入“实体清单”不会对公司业务产生实质性影响。公司将持续关注和跟进后续事件的发展状况,并积极与各相关方做沟通,做好应对工作。
上述事项会对北方华创产生多大影响?证券交易市场上的股价波动,往往能视作是市场的反应、预期。
12月4日,北方华创的股价并未大幅度下滑。相反,早盘,股价一度冲高。至早盘收盘时,涨幅收窄至0.21%,收报406.25元/股。
今年11月12日以来,北方华创的股价有较明显幅度调整,股价从最高490.03元/股回落,到目前,回撤幅度达到17.10%。
2015年9月30日,对于北方华创而言,是一个重要的历史转折点。当日,公司收盘价为19.28元/股。随后,公司实施联合重组,股票停牌。
北方华创的前身是七星电子,七星电子与北方微电子实施联合重组,组建了北方华创。
2016年1月11日,股票复牌。此后,股价上行。从K线年时间,股价整体上是震荡上行。
今年12月4日早盘收盘价406.25元/股,较因联合重组事项停牌前的收盘价19.28元/股上涨了约20倍。
今年第三季度,在连续三个季度增持后,陆股通减持了少量北方华创股份。而华泰柏瑞基金公司、国泰基金公司、东方基金进行了增持。
三季度报告数据显示,今年前三季度,北方华创实现的营业收入为203.53亿元,首次在前三季度超过200亿元,同比增长39.51%;净利润44.63亿元,同比增长54.72%。前三季度的净利润,不单单是创了历史同期新高,而且,超过历史上任一年度净利润。
联合重组后的2016年以来,北方华创的经营业绩持续迅速增加。2016年至2023年,公司营业收入从16.22亿元增长至220.79亿元,净利润从0.93亿元增长至38.99亿元,期间均为不间断快速地增长,营收净利累计分别增长了1261.22%、4092.47%。
今年以来,半导体市场景气度并不高,北方华创的经营业绩依旧快速地增长,超出市场预期。
长江商报记者看出,北方华创经营业绩持续迅速增加,与其研发创新、产业布局直接相关。
2018年、2020年,公司相继收购美国Akrion和北广科技射频技术资产,进行产品线年,北方华创相继完成了两次定增,共计募资105亿元,大多数都用在高端集成电路装备研发及产业化项目、高精密电子元器件产业化基地扩产项目、半导体装备产业化基地扩产项目(四期)、高端半导体装备研发项目、高精密电子元器件产业化基地扩产项目(三期)等建设。
持续布局的结果是,北方华创在高端电子工艺装备及精密电子元器件两大主业板块持续保持国内领先地位。
北方华创格外的重视研发。从研发投入方面看,2020年至2023年,其研发投入分别为16.08亿元、28.92亿元、35.66亿元、44.10亿元,逐年增加。2022年,研发投入占据营业收入的24.29%,接近四分之一。
今年前三季度,公司研发投入为21.92亿元,同比增长57.81%,高于营业收入增速。
截至2023年底,公司研发人员数量为3656人,占员工总数的30.44%。
北方华创在科学技术创新方面不断取得新突破。截至今年6月底,公司累计申请专利已超过8300件,取得授权专利超过4900件。
在今年半年报,北方华创披露称,在集成电路核心装备领域,公司成功研发出高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)、双大马士革CCP刻蚀机、立式炉原子层沉积(ALD)、高介电常数原子层沉积(ALD)等多款具有自主知识产权的高端设备,并在多家客户端实现稳定量产。
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