卓胜微取得实用新型专利授权：“等离子体刻蚀腔室盖板”

时间: 2025-03-13 13:20:17 |   作者: 产品中心

  证券之星音讯，依据天眼查APP多个方面数据显现卓胜微（300782）新取得一项实用新型专利授权，专利名为“等离子体刻蚀腔室盖板”，专利申请号为CN4.5，授权日为2025年2月28日。

  专利摘要：本实用新型供给一种等离子体刻蚀腔室盖板，在其侧壁上设置开口宽度大于槽底宽度的环状转移槽，以经过环状转移槽对等离子体刻蚀腔室盖板来装置及转移，其间，呈环状的转移槽可便于工作人员调整转移方位，加大手指与等离子体刻蚀腔室盖板的触摸面积，省力的一起也可以尽可能的防止装置过程中手指与GDP调整支架挂钩的揉捏，防止人员手指受伤，以及可防止装置过程中等离子体刻蚀腔室盖板与GDP调整支架挂钩的磕碰，防止等离子体刻蚀腔室盖板的本身的损坏，然后可大起伏提高装置安全性和可靠性；进一步的，经过对环状转移槽进行多种尺度及描摹的设置，还可进一步的扩展等离子体刻蚀腔室盖板的使用快捷性及适用范围。

  今年以来卓胜微新取得专利授权7个，较去年同期增加了250%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研制方面投入了4.93亿元，同比增94.22%。

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